Source: CNBC
ASML是最大的半导体制造设备制造商，周一宣布与比利时芯片研究公司Imec合作，开设了用于其High NA EUV光刻设备的测试实验室。这个位于荷兰Veldhoven的实验室经过多年筹备，将为领先的芯片制造商和其他设备材料供应公司提供一个早期机会，使用这款价值350名刀（合380名欧元）的新型设备。
ASML主导光刻设备市场，光刻是芯片制造过程中的核心步骤，利用光束创建芯片的电路。在芯片制造商中，只有台积电、三星、英特尔和存储专家斯基海力士可以使用ASML目前的极紫外或EUV机器进行制造。
这款新的High NA工具可以提供更高达60%的解析度，预计将带来新一代更小、更快的芯片。ASML周一重申，预计客户将在2025-2026年开始使用这款设备进行商业生产。
迄今为止，ASML仅向美国英特尔交付了另一台测试机器，计划在2025年的14A工艺中使用该设备。ASML已经接到超过一打的订单，尽管台积电作为EUV设备的最大客户表示，不需要为其预计于2025年投产的A16芯片使用High NA工具。
技术创新不断推动芯片行业的发展，新一代更加先进的制造工具将助力电子设备迈向更小、更快的时代。
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来源：https://www.cnbc.com/2024/06/03/asml-belgiums-imec-open-laboratory-to-test-newest-chip-making-tool.html
https://www.asml.com/en/products/euv-lithography-systems/twinscan-nxe-3600d
https://www.asml.com/en/news/stories/2022/making-euv-lab-to-fab
